xrf（x 射線熒光）是一種用于測定材料中元素組成的無損分析技術。xrf 技術通過分析可樣品由一級 x 射線源激發(fā)而散射出的熒光（或二級）x 射線，來確定樣品的化學屬性。樣品中的每一種元素受激發(fā)后都會產生一組特定的熒光 x 射線（“指紋”），因此對于材料化學成分定量及定性分析而言，xrf 光譜法是一種非常好的技術。
x 射線熒光過程:
用受控 x 射線管發(fā)出的高能 x 射線照射固體或液體樣品。
當樣品中的某個原子被能量充足（大于原子的 k 或 l 殼層結合能）的 x 射線撞擊時，就會從原子的一個內軌道殼層中逐出一個電子。
原子恢復穩(wěn)定性，并使用來自原子更高能量軌道殼層之一的電子填補內軌道殼層的空缺。
電子通過釋放熒光 x 射線降至較低能量狀態(tài)。該 x 射線的能量等于電子兩個量子態(tài)之間的特定能量差。這種能量的測量是 xrf 分析的基礎。
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