半導(dǎo)體工業(yè)一直以來都是全球高科技產(chǎn)業(yè)中非常重要的一員，然而目前半導(dǎo)體工業(yè)所面臨的問題也越來越大。由于半導(dǎo)體的發(fā)展速度已經(jīng)超越了傳統(tǒng)的摩爾定律，因此當(dāng)代的 leading edge 半導(dǎo)體生產(chǎn)已經(jīng)需要遠(yuǎn)超傳統(tǒng)工藝線的精纖制造技術(shù)。
euv 光刻機(jī)那么就是在這個(gè)背景下應(yīng)運(yùn)而生，作為半導(dǎo)體制造業(yè)的印鈔機(jī)，它不僅能夠提高半導(dǎo)體芯片的制造速度，還能有效降低制造成本。在半導(dǎo)體芯片的成本中，光刻機(jī)使用的光刻英寸產(chǎn)生的費(fèi)用也是相當(dāng)可觀的。
然而，傳統(tǒng)的光刻機(jī)存在很多瓶頸，比如無法在凝汽層場的惡劣環(huán)境下使用，而且還存在著不同區(qū)域的分辨率不同的問題。在工藝線的發(fā)展中，這些瓶頸已經(jīng)不再可承受。每年只能進(jìn)行一次工藝升級(jí)的生產(chǎn)線大幅制約了半導(dǎo)體業(yè)的發(fā)展速度和競爭力。
而作為目前最高級(jí)的光刻機(jī)，euv 光刻機(jī)在繼承傳統(tǒng)光刻機(jī)的基礎(chǔ)上，應(yīng)用了極端紫外光（euv）技術(shù)。這種技術(shù)的波長為 13.5 納米，是可見光波長的四十倍，能夠?qū)崿F(xiàn)更高的分辨率和更快的制造速度。因此只有通過這種技術(shù)的革新才能讓半導(dǎo)體工業(yè)實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)線的跨越性升級(jí)。
euv 光刻機(jī)的各個(gè)部分都是由非常復(fù)雜的零部件組成。整個(gè)機(jī)器的裝配過程是非常異乎尋常的，令人拍手稱贊的巨大視覺效果，從機(jī)械部分的各種幾何構(gòu)造到各種高精度的控制系統(tǒng)都是經(jīng)過設(shè)計(jì)師的大量優(yōu)化工作。這也是為什么每一臺(tái) euv 光刻機(jī)導(dǎo)致了如此之高的研發(fā)和制造成本的原因所在。
總之，euv 光刻機(jī)的出現(xiàn)對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)來說是一次重大突破與飛躍，它將逐漸取代傳統(tǒng)光刻機(jī)，成為半導(dǎo)體生產(chǎn)中不可或缺的先進(jìn)技術(shù)。