電解等離子體設(shè)備在拋光液處理中的實驗及數(shù)據(jù)分析研究

發(fā)布時間:2024-07-20
電解等離子體設(shè)備拋光處理技術(shù)是一種特殊的加工方式,它是一種“綠色”、高(效)率的金屬物品拋光處理的特殊方式,它根據(jù)物品與拋光液之間形成的氣層進行放電處理。它的拋光液是低濃度的鹽溶液,并能根據(jù)補充拋光處理鹽而循環(huán)使用,解決了機械拋光難加工形狀復雜物品的難題,解決了化學、電解拋光等難以避免的污染問題,具有廣闊的應(yīng)用前景。
探討了這種拋光處理方式能達到微觀整平的原因,揭示了電解液等離子體設(shè)備拋光處理的基本原理。根據(jù)相關(guān)理論,研究了拋光液成分對磨光功效的影響,發(fā)現(xiàn)電解液等離子體設(shè)備研磨拋光是一種動態(tài)環(huán)節(jié),它的放電去除率高,對反應(yīng)產(chǎn)生速度快是拋光拋光的前提。通過結(jié)果和剖析,確定了在拋光液中以差異方式潛入物品時的伏安特性曲線,以及電流、電壓隨時間的改變曲線,確定出合理的物品下潛方式。采用相關(guān)儀器,對不銹鋼試件的表層狀態(tài)、粗糙度、耐蝕性、微觀形貌、表層化學成分、微觀形貌、表層化學成分及顯微便度進行了研究。通過分析等離子體設(shè)備拋光材料的導熱和獲得物體表面勢能的方法,發(fā)現(xiàn)物體表面熱流密度是影響物體表面勢能的重要因素,其主要來源是電子沖擊。試驗表明,在穩(wěn)定的研磨狀態(tài)下,材料的去除速度與電流密度成正比關(guān)系。
根據(jù)等離子體設(shè)備對物品拋光處理電壓、濃度、溫度、物品潛入深度、物品祛除速度等因素的剖析,對試驗結(jié)果進行了研究。建立了表面粗糙度隨拋光時間變化的數(shù)學分析模型,確定在一定條件下,經(jīng)不同拋光處理時間后,試件表面真實粗糙度的實際值,利用這些數(shù)據(jù)與數(shù)學分析模型進行非線性擬合,通過對數(shù)學分析模型的擬合修正,得到的數(shù)學分析模型與試驗數(shù)據(jù)吻合較好。并對拋光液溫度的差異條件下,分別進行了兩組試驗,查驗修正后的數(shù)學分析模型與實際拋光處理基本一致。
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