恒溫恒濕試驗箱環(huán)境試驗設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)
現(xiàn)行環(huán)境試驗設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)共有九項：
濕熱試驗箱技術(shù)條件
鹽霧試驗箱技術(shù)條件
長霉試驗箱技術(shù)條件
低溫試驗箱技術(shù)條件
低溫/低氣壓試驗箱技術(shù)條件
高溫/低氣壓試驗箱技術(shù)條件
高、低溫試驗箱技術(shù)條件
9高溫試驗箱技術(shù)條件
低氣壓試驗箱技術(shù)條件
貫徹執(zhí)行過程中的注意事項
1)對基本環(huán)境條件的要求，綜合在一起主要有下列幾項
a)溫度：15℃~35℃
b)相對濕度：不大于85%rh
c)大氣壓強：86kpa~106kpa
d)熱輻射：無陽光起直射，無熱源直接輻射
e)氣流：無強烈氣流，需要時不可直接吹到箱體上
f)電磁場：無強烈電磁場
g)三廢：無高濃度粉塵及腐蝕性物質(zhì)
h)冷卻水源：水溫不大于30℃，水壓控制在0.1~0.3mpa
i)加濕水源：電阻率不低于500ωm
j)電源：220±22v、380±38v、50±0.5hz
2)負載要求：
a)負載品種：一般可用電工、電子產(chǎn)品或其它產(chǎn)品、零部件及絕緣材料等(鹽霧試驗除外)
b)負載條件：
-------負載總質(zhì)量：50~80kg/m3
-------負載總體積：不大于工作室容積的1/5
-------阻擋主風(fēng)道總面積：不大于主風(fēng)道所處工作室截面積的1/3
-------鹽霧試驗設(shè)備：規(guī)格：50*100*(1~2)mm
-------種類：金屬
-------樣品數(shù)：160塊/m2(工作室水平面面積計)