1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準確、透過高、截止深、溫漂小、耐用性好、光潔度好的特點, 是激光設備應用中常見的濾光片解決方案.
1064nm 窄帶濾光片使用在各種特殊的場合和惡劣的氣候環(huán)境, 要求濾光片在苛刻的使用條件下有良好的性能, 故膜層的牢固度和技術(shù)指標穩(wěn)定性非常重要. 這些性能包括:大口徑面積內(nèi)膜層均勻性好、透射率要求高、膜層牢固度高、中心波長穩(wěn)定性好(零漂移)等. 上海伯東某客戶采用采用光學鍍膜機加裝美國進口 kri 大尺寸射頻離子源 rficp 380輔助沉積鍍制 1064nm 窄帶濾光片激光膜, 以達到客戶對于高品質(zhì)鍍膜效果的需求.
kri 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜:
1. 應用方向:離子清洗, 輔助沉積
2. 鍍膜機型:1米7 的大型蒸鍍設備, 配置美國 kri 射頻離子源 rficp 380
3. 測試環(huán)境:80c / 80% 濕度, 85c / 95% 濕度, 連續(xù) 1,500 小時高溫高濕嚴苛環(huán)境測試
4. 鍍膜材料:ti305+si02、ta205+si02
5. 應用領(lǐng)域:激光設備、生化儀、光學測量儀器、酶標儀、生物識別、紅外醫(yī)療儀器、熒光分析儀、醫(yī)療檢測設備等其他生物化學分析儀器
上海伯東美國進口 kri 大尺寸射頻離子源rficp 380輔助沉積鍍制1064nm窄帶濾光片, 沉積過程穩(wěn)定, 加以合理的膜系設計, 可以很好地鍍制出透過率高、截止寬度寬、溫度漂移小、膜層致密度高、使用壽命長的產(chǎn)品.
上海伯東美國 kri 射頻離子源 rficp 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長!射頻離子源 rficp系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.
射頻離子源rficp 系列技術(shù)參數(shù):
型號
rficp 40
rficp 100
rficp 140
rficp 220
rficp 380
discharge 陽極
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
離子束流
>100 ma
>350 ma
>600 ma
>800 ma
>1500 ma
離子動能
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
柵極直徑
4 cm φ
10 cm φ
14 cm φ
22 cm φ
38 cm φ
離子束
聚焦, 平行, 散射
流量
3-10 sccm
5-30 sccm
5-30 sccm
10-40 sccm
15-50 sccm
通氣
ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型壓力
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
長度
12.7 cm
23.5 cm
24.6 cm
30 cm
39 cm
直徑
13.5 cm
19.1 cm
24.6 cm
41 cm
59 cm
中和器
lfn 2000 orrfn
上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵,真空規(guī),高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).1978 年 dr. kaufman 博士在美國創(chuàng)立 kaufman & robinson, inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng)40 年改良及發(fā)展已取得多項專. 離子源廣泛用于離子清洗 pc, 離子蝕刻 ibe, 輔助鍍膜 ibad, 離子濺射鍍膜 ibsd 領(lǐng)域.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:上海伯東: 羅小姐