xau-4cs元素分析儀 膜厚分析儀性能優(yōu)勢(shì)：
1.微小樣品檢測(cè)：*小測(cè)量面積0.03mm2（加長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm2）
2.變焦裝置算法：可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm
3.的efp算法：li(3)-u(92)元素的涂鍍層，多層多元 素，甚至有同種元素在不同層也可*測(cè)量。
4.*的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限。
5.高性能探測(cè)器：sdd
xau-4cs元素分析儀 膜厚分析儀技術(shù)參數(shù)
測(cè)量面積：*小0.03mm2
鍍層分析：23層鍍層24種元素
儀器特點(diǎn)：rohs鹵素有害元素檢測(cè)
儀器優(yōu)勢(shì)：同元素不同層分析
儀器簡(jiǎn)介：
xau-4cs是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度*的光譜分析儀，采用了下照式c型腔體設(shè)計(jì)，是一款一機(jī)多用型光譜儀。
應(yīng)用核心efp算法和微光聚集技術(shù)，既保留了測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)rohs檢測(cè)及成分分析。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
技術(shù)參數(shù)：
1.成分分析范圍：鋁（al）- 鈾（u）
2.成分*低檢出限：1ppm
3.涂鍍層分析范圍：鋰（li）- 鈾（u）
4.涂鍍層*低檢出限：0.005μm
5.*小測(cè)量直徑□0.1*0.3mm（*小測(cè)量面積0.03mm2）
標(biāo)配：*小測(cè)量直徑0.3mm（*小測(cè)量面積0.07mm2）
6.對(duì)焦距離：0-30mm
7.樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm
8.儀器尺寸：550mm*480mm*470mm
9.儀器重量：45kg
10.xy軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍：50mm*50mm
11.xy軸工作臺(tái)*承重：5kg
多元迭代efp核心算法（號(hào)：2017sr567637）
*的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在alpha和fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出efp核心算法，結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用：如ni/fe、ag/cu等
多涂鍍層應(yīng)用：如au/ni/fe、ag/pb/zn等
合金鍍層應(yīng)用：如znni/fe、znal/ni/cu等
合金成分應(yīng)用：如nip/fe，通過efp算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可*分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可*測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的ni/cu/ni/fendb，*層ni和第三層ni的厚度均可測(cè)量。
有害元素檢測(cè)：rohs檢測(cè)，可滿足鉛（pb）、汞（hg）、鎘（cd）、六價(jià)鉻（cr vi）等有害元素的成分檢測(cè)及含量分析
選擇四大理由：
1.一機(jī)多用，無損檢測(cè)（涂鍍層檢測(cè)-環(huán)保rohs-成分分析）
2.*小測(cè)量面積0.002mm2
3.可檢測(cè)凹槽0-30mm的異形件
4.輕元素，重復(fù)鍍層，同種元素不同層亦可檢測(cè)