sem大面積樣品制備新手段——gatan pecs ii (685) 第二代精密刻蝕鍍膜儀
gatan 第二代精密刻蝕鍍膜儀(pecs ii)是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。對于同一個樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜。pecsii是一款*獨立、結構緊湊的臺式設備。采用兩個寬束氬離子源對樣品表面進行拋光，去除損傷層，從而得到高質量樣品，用于在sem，光鏡或者掃描探針顯微鏡上進行成像、eds、ebsd、cl、ebic或其它分析。
技術特點
*可容納直徑32mm的大樣品
*集拋光、刻蝕或鍍膜于一身，樣品刻蝕后立即鍍膜，排除樣品污染
*離子槍電壓、束流、刻蝕時間及鍍膜厚度可精確控制，實驗重復性好
*具有平面和截面兩種加工模式，滿足不同應用需求
*whisperloktm技術，30s內實現(xiàn)樣品快速更換，提高工作效能
*低能聚焦離子槍保證低能量下工作效率，尤其適合加工對表面損傷敏感的樣品，對ebsd和cl類等對表面要求苛刻的樣品效果尤佳
*改進低能拋光效果，減少非晶層；提供更高的能量，以提高拋光速度
*保護樣品避免離子束熱損傷，消除可能的假象
*快速簡便地訪問所有的控制參數(shù)
*如選配iprep，更可實現(xiàn)3d ebsd或樣品三維重構
*實時監(jiān)控加工過程將存儲的光學圖像與其他分析系統(tǒng)的數(shù)據(jù)做關聯(lián)分析
*濺射靶材至樣品表面，防止樣品在sem/fib中發(fā)生荷電
應用范圍
適應大多數(shù)材料類型，對大面積、表面或輻照及能量敏感樣品尤佳
鋼鐵、地質、油頁巖、
鋰離子電池、光伏材料、
薄膜、半導體、ebsd、生物材料等
典型應用
例一大面積ebsd樣品分析
trip鋼試樣經(jīng)pecs ii平面模式拋光后，直徑8mm內仍可運用ebsd進行精確標定
例二大面積頁巖樣品分析
頁巖試樣經(jīng)pecs ii平面模式拋光后，保證直徑16mm內仍能滿足頁巖分析要求
更多產(chǎn)品應用詳情歡迎垂詢: